EUV光刻机工作场景
截至目前，荷兰与日本是唯二具备光刻机制造能力的国家，尤其是荷兰的ASML公司，在光刻机领域是无可置疑的科技巨头。
而且据荷兰ASML公司高管表示，实际上EUV光刻机里有90%的零部件都来源于全球各大科技巨头公司，例如光源来自于美国Cymer公司，光学部件来源于德国老牌镜头企业蔡司，精度控制系统来源于美国世德科技集团……
因此从某种意义而言，任何单一的国家与企业眼下都不具备独立生产光刻机的能力，它本质上是一个国际产业链的合作项目。
ASML公司的光刻机产品
制造光刻机的技术难度那么，生产光刻机的技术难度究竟有哪些？以至于需要集中全球各大科技巨头的携手合作才能顺利制造？
EUV光刻机
首先就是光刻机最重要的核心功能——光源铭刻，这意味着光刻机需要一款精度达到纳米级的激光发射器，目前唯有美国Cymer公司具备生产深紫外线光源的能力。
而Cymer公司实现13纳米深紫外线的原理并不复杂，其实就是让原本的193纳米紫外线以每秒5万次的频率不断轰击滴落的金属锡滴液，最终得到波长更短的13纳米深紫外线。
光源铭刻
原理虽然不复杂，但具体操作的难度可谓难如登天。由于每一滴金属锡滴液的直径不到20微米，而且还要以每秒5万次的频率准确轰击这些金属锡滴液，这对光源的发射精确程度提出了极为严苛的要求。
举例来讲，这相当于在地球上不断射击在月球上飞驰的F1赛车，而且每次射击都不能落空，频率也需要达到每秒5万次。
