以往紫外压印工艺中印章是用PDMS 材料涂覆在石英衬底上制作而成。PDMS 是一种杨式模数很小的弹性体, 用它制作的软印章能实现高分辨率。然而在随后的试验中发现由于PDMS 本身的物理软性, 在压印过程中在外界低压力下也很容易发生形变, 近来, 法国国家纳米结构实验室提出使用一种3 层结构的软性印章, 以减小紫外压印印章的形变。
该印章使用2mm 厚的石英衬底, 中间一层是厚度为5mm 的PDMS 缓冲层, 顶层是由PMMA 构成。具体制作印章步骤是先将PMMA 均匀涂覆在被离子激活的PDMS 材料上, 在PMMA 上镀上一层30nm厚的锗薄膜作为后续工艺中的刻蚀掩模, 再在锗薄膜上涂覆对电子束灵敏度高的抗蚀剂, 随后用电子束光刻及反应离子刻蚀就可在印章顶层PMMA 上得到高纵横比的图案, 最后将残余锗薄膜移去即可。使用该方法可以在保持高分辨率情况下大大提高印章的坚硬度, 减小印章压印形变。
那为什么全世界只有ASML能够制造顶级的光刻机？
1，ASML出生名门。
ASML是一家荷兰公司。说起来荷兰，很多人都会觉得，这不过是个小国家而已，但是只要翻开荷兰的历史就可以发现，这个国家实际上是最早的一批帝国主义国家，经济科技实力十分雄厚。
同时，ASML是从著名的电子制造商飞利浦公司中独立出来的一个公司，而飞利浦公司自然不用说了，世界顶级的电子产品制造商，其半导体部门独立之后，除了成立了世界顶级光刻机制造商ASML之外，还成立了一流的芯片设计商恩智浦，所以其技术实力可见一斑。
所以说，ASML出生在发达国家的名门望族，一开始就是含着金钥匙出生的。
2，独特新颖的技术发展模式。
ASML没有采用自己一家公司承担全部技术研发的发展模式，而是采用了一种博众家之长的发展模式。所以说，在ASML光刻机中，超过90%的零件都是向外采购。
这样的发展模式使得ASML时刻都可以获得世界上最先进的技术，让光刻机上的每一个零件都能够保证世界领先，而ASML自己则可以把精力放在技术整合和客户需求上。
要知道，电子产业是一个更新迭代速度非常快的产业，ASML这样的发展模式让它在行业竞争中获得了极大的优势。比如说著名的德国蔡司公司，就负责ASML光学模组的生产【下图展示的就是蔡司公司在光刻机中的光学模组】。
而相比之下，老牌的光刻机制造商，如尼康和佳能，则因为因循守旧，所以在激烈的竞争中迅速被击败，尤其是尼康，从市场份额遥遥领先到被ASML反超只用了不到十年的时间【如下图所示】，足见这个行业的竞争之激烈。
3，奇特的营销模式。
另外，ASML有一个非常奇特的规定，那就是只有投资ASML，才能够获得优先供货权，意思就是要求他自己的客户要先投资自己才行。
这样奇特的合作模式一方面可以使得ASML获得大量的资金，另一方面也是在投资之初就已经搞定了销售对象，根本就不要担心自己生产的东西卖不出去。
所以说，在这样的政策之下，包括英特尔、三星、台积电、海力士都在ASML中有相当可观的股份，可以说大半个半导体行业都是ASML一家的合作伙伴，形成了庞大的利益共同体——就算是技术研发出现了失误，英特尔挤挤牙膏就好了，并不会威胁到ASML的市场占有率。
