光刻机这个听起来并不是那么具有*伤力的东西，确实比原子弹更加稀有。主要还是因为光刻机技术的突破存在很多难点，至今一直都未被攻破。那么，它为啥就那么难突破呢？
前面咱们说过，目前世界上最先进、精度最高、效率最高的光刻机是由荷兰的ASML所提供的，而且这不是ASML一家公司的功劳，其中有一半以上的光刻机零部件需要其他公司制造研发，而ASML则在最后负责讲这些零件组装在一起。
也就是说，要制造一台高端光刻机，可能需要来自全世界的零件厂家一起共同努力才能完成，缺少了任何一个部分都不行。在荷兰已经争得先机的现在，其他国家很难再从中分到一杯羹了。
而且，这与世界上影响力最大的国家——美国，也是相关联的。
荷兰作为欧盟成员国之一，对于美国和欧盟本身来说都比较容易管理，而像日本啊、中国啊一类的国家，美国的手虽然可以伸过来，但明显不如在荷兰来得自由，因此，美国和欧盟也会极力他们以外的国家获得这些尖端技术，妨碍他们垄断的道路。
更何况，为了保证自己的垄断地位，荷兰ASML公司对其旗下的产品也施加了多层保护，制定了严格的采购程序，甚至还将其上升到了荷兰当地政府法律的层面。其中明确表示了进口企业不得侵犯该公司的知识产权， 其中包括逆向开发，因此以其他公司的产品来助力我国技术的诞生这一道路是走不通的了。
出于这三个原因，ASML一直以来都禁止向中国提供真正的支持。
所以说，从目前的这个情况来看，国产光刻机技术落后ASML至少是10年以上，对中国来说，想要独立制造光刻机，可以说是万里长征才开始第一步。
不过，咱们也不是那么多年都任由别人“卡脖子”，而自己没有动作的，我们在“光刻机”上也有自己的一部分研究成果。
中国的光刻机技术成果目前中国自主研研制的90nm光刻机已经商用，并且已经成功攻克DUV浸润式光刻机的主要技术；上海微电子研制的28nmDUV光刻机，就可以用来进行14nm芯片的生产。
别看这14nm好像还差得远，要知道，平时我们虽然听什么14nm、7nm甚至是3nm听多了，对芯片的技术失去了概念，但其实只要跨过 28nm制程这道难以逾越的墙壁，那就算是排在世界尖端的水平了。
