众所周知，光刻机是芯片制造过程中最重要最关键的设备之一。也是国内水平较国际顶尖水平差距非常大的半导体设备之一。
因为ASML的光刻机可以实现5nm芯片的生产，而我国最先进的光刻机目前还只能实现90nm芯片的生产，差距至少是10年以上。
而光刻机的原理并不是特别复杂，本质其实与投影仪 照相机。就是用光源把芯片的电路图投射到涂了光刻胶的硅晶圆上，硅晶圆涂了光刻胶，是一种光感材料，就会显示出电路图来，这中间光学技术运用得比较多。
也正因为如此，所以很多人就会有一个疑问，光学技术是日本最强，比如索尼、尼康、理光、佳能等等光学巨头都是日本的企业，为何在光刻机上却不行呢？
其实在ASML崛起之前，是日本的光刻机技术最强的，当时做光刻机的厂商起码有十多家，尼康凭借着相机时代的积累，在那个日本半导体产业全面崛起的年代，正是当之无愧的巨头。
此外，还有佳能的光刻机也是非常牛的，ASML在当时还只是一个穷小子，和尼康、佳能比起来，啥都不算。
转折点在157nm光源干刻法与193nm光源湿刻法的技术之争。当时的光源达到了193nm，而接下来要实现更高的工艺要求，就要将光源波长变短，实现更精密的光刻。
但在这里，台积电的一位工程师出来林本坚出现了，提出了一个理论，说水会改变光的波长，193nm的激光如果经过水的折射，不就直接降低到132nm了么？并基于此提出了浸润式光刻的办法，即在透镜和硅片之间加一层水，而此前是干式光刻法，即透镜和硅片之间是空气的。
而像尼康、佳能当时已经是光刻机的巨头了，对于这种新技术，当然没这么看重的，但ASML不同，反正是小厂，不赌是等死，赌是找死，就赌上了，直接和台积电合作，推出了全球第一台浸润式光刻机。
更有意思的是，在浸润式光刻机走红之后，ASML的管理者也是个天才，觉得光靠这样卖光刻机也不是办法，提出让芯片厂商们入股，用这种办法把芯片制造厂商和ASML绑在了一起。
所以我们看到，如今像台积电、三星、英特尔、AMD等厂商都是ASML的*。这样新技术 新模式，让ASML迅速崛起，成为了“当红炸子机”。
而日本的光刻机厂商在新技术上慢了一步，最后再加上日本的半导体被美国打压，整体裹足不前，于是在光刻机技术上也是越来越落后，如今也就是比中国厂商强一点点，空余往日的辉煌了。
