目前国产高端EUV光刻机已经取得了一些进展，但还有待提高和完善。
EUV光刻机技术十分复杂，需要解决多项技术难题，如光源功率、光刻胶性能等问题。
国产企业目前已经成功开发出一些独立知识产权的技术，并且开始进行试产，但还需要进行大规模的试制和应用调试，以验证其可行性和稳定性。
EUV光刻技术是半导体行业的重要基础设施之一，其研究和发展对于我国半导体工业的提升至关重要。
我国在研发EUV光刻技术上的投入已经逐步增加，未来有望取得更多的突破和进展。
目前，中国已经成功地研制出了第一台完整的EUV光刻机，这一步的成功标志着中国已经开始向全球高端光刻机市场迈进。这台光刻机采用了最先进的EUV技术，可以在较短的时间内生产出更高质量的芯片。
中国的这一技术突破将对全球半导体产业产生重大影响，有助于推动全球半导体产业向更高水平发展。
