中国作为目前世界上的第二大经济体，在很多高精尖领域都引领着技术的发展，但有一样象征着工业强国的科技产品，我国始终无法完成自产，这就是EUV光刻机。
目前全世界能够制造EUV光刻机的国家只有两个，荷兰和日本。虽然美国同样没有光刻机的制造技术，但考虑到荷兰与日本同美国的同盟关系，英法两国又是西方阵营里的欧洲强国，实际上只有中俄被排除在EUV光刻机俱乐部以外。
要了解光刻机制造为什么这么难，首先要清楚光刻机是个什么东西。我们都知道电子产品的运行依赖芯片，芯片就如同电子产品的大脑，芯片越强大，电子产品的功能就越强大。
芯片作为一种高度集成化的科技产物，能以很小的体积运行天文数量的晶体管，用中国古话来讲，就是螺蛳壳里做道场。而光刻机就是为了完成这样微小却精细的操作而生的。
光刻机启动后，会发射紫外线去除晶圆表面的保护膜，再将电路图形精准投射到晶圆上，以制造出符合芯片需求的图形区域。这样的操作看似简单，但却全程保持着纳米级别的精密加工。
尤其是光刻机从DUV迭代到EUV后，加工精度更加夸张，对中国的光刻机制造单位而言，突破精度的技术壁垒，比登天还难。哪怕是我们有幸得到了最先进的EUV光刻机实物，也因为达不到相同的加工精度而无法国产。
