1964年10月，罗布泊核试验场上空腾起了一朵巨大的蘑菇云，这正是中国首枚原子弹试爆成功的壮观场面。在全世界国家里，中国的核武器研发速度是最快的，从立项到试爆成功仅用了不到5年时间。
由此可见，中国人的科研能力在世界范围内都属于一流水平。
核武器爆炸的蘑菇云
然而在半个多世纪后，有一个工业项目卡住了中国的脖子，耗时多年却始终无法自主生产，它就是EUV光刻机。
目前有能力制造核武器的国家已经有9个之多，但有能力制造EUV光刻机的国家却只有2个，因此在某种程度上，EUV光刻机技术是比核武器还要稀有的存在。
光刻机在高科技领域的意义自上世纪90年以来，人类已经进入信息化时代，而且眼下还具备朝智能化时代过渡的趋势。而在这个过程中，高性能芯片无疑是必不可少的核心部件，它相当于“万物互联”的大脑，赋予了各种信息化产品运算和处理命令的能力。
因此，若一个国家能够掌握制造高性能芯片的技术，它就能在信息化浪潮带来的第四次工业革命中占据潮头的位置。
高性能芯片
而光刻机就是生产芯片的关键设备。在芯片的生产流程中，它需要去除原始晶圆表面覆盖的保护膜，并通过高精度激光投射装备将设计好的电路图形“铭刻”在不足指甲盖大小的晶圆上，这一过程对加工工艺的精度要求达到了纳米级。
如果精度达不到要求，那么生产出的芯片轻则性能达不到设计指标，重则直接变为工业废品。
光刻机生产芯片
在EUV光刻机问世前，世界主流水平使用的是DUV光刻机，其发射的短波紫外线波长为193纳米。但荷兰ASML公司于2015年前后研发出了加工精度更高的EUV光刻机，将原本的短波紫外线升级为深紫外线，波长缩短至13.5纳米。
凭借大大提升的加工精度，EUV光刻机可以生产制程13纳米以下的高性能芯片，这是过去DUV光刻机力不能及的领域。
