国内光刻机公司上海微电子已经可以量产90nm光刻机了，90nm光刻机经过三次曝光可以生产28nm芯片。
能够量产，这也足以证明了上海微电子在总集成方面已经取得了长足的进步。
在专利方面也没有停滞
2022年11月15日，华为就申请了一份EUV技术专利，专利申请号为202110524685X。
这份专利称其正在开发用于半导体制造过程的EUV扫描仪，同时也包括反射镜、印刷电路光刻和适当系统控制。
总的来说，我国在EUV光刻机研发方面，有条不紊，快速而不紧张，难题正在一点点攻克。
写到最后EUV光刻机是全球技术的集大成者，号称没有哪个国家能够单独攻破。作为集成商的ASML也仅仅掌握了其中的10%。
但是，我国已经开始自主研发了，并且每天都在取得进步，这就是最厉害之处。
最后，EUV光刻机是人造不是神造的，只要是人造的就会有解决办法。
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