1.工业制HNO3本文总结了高中要求的所有常见无机物的工业制备方法，包括工业制HNO3、H2SO4、HCl、氨气、玻璃等，方便学生进行系统复习。
4NH3 5O2=（催化剂、△）4NO 6H2O
（反应条件：800度高温，催化剂铂铑合金作用下）
2NO O2=2NO2
3NO2 O2=2HNO3 NO
2.工业制H2SO4
沸腾炉：
4FeS2 11O2=（高温）2Fe2O3 8SO2
接触室：
2SO2 O2⇌（加热、催化剂）2SO3
吸收塔：
SO3 H2O=（高温）H2SO4
3. 工业制HClH2 Cl2=（点燃）2HCl
然后用水吸收，在合成塔内完成
4.工业制烧碱2NaCl 2H2O=(电解)H2↑ Cl2↑ 2NaOH
5.工业制纯碱（侯氏制碱法）NH3 H2O CO2=NH4HCO3
NH4HCO3 NaCl=NaHCO3 NH4Cl（NaHCO3结晶析出）
总：NaCl＋NH3＋CO2＋H2O＝NaHCO3＋NH4Cl
2NaHCO3=（△）Na2CO3 H2O CO2
6.工业制氨气
合成塔：
3H2 N2⇌（高温高压催化剂）2NH3
注：催化剂为铁触媒
7. 工业制玻璃（设备名称：玻璃窑）Na2CO3 SiO2=（高温）Na2SiO3 CO2↑
CaCO3 SiO2=（高温）CaSiO3 CO2↑
8. 工业制硅利用反应 SiO2 2C=（高温） Si 2CO↑
能得到不纯的粗硅。粗硅需进行精制，才能得到高纯度硅。
首先，使Si跟Cl2起反应： Si 2Cl2=SiCl4（400 ℃～500 ℃）
生成的SiCl4液体通过精馏，除去其中的硼、砷等杂质。然后，用H2还原SiCl4： SiCl4＋2H2=（高温） Si 4HCl这样就可得到纯度较高的多晶硅。
9. 工业制漂白粉2Cl2 2Ca(OH)2=CaCl2 Ca(ClO)2 2H2O
10. 工业腐蚀印刷电路板2FeCl3 Cu=2FeCl2 CuCl2
2Fe3 Cu=2Fe2 Cu2
11. 工业制金属Na
