而现在这项技术已经被限制了，我们到底该如何突破呢？
有没有希望研制出光刻机？
以我国现在研究光刻机虽然有点困难，但是我们也不会放弃的。
都说失败乃成功之母！
只有不断地尝试，不断的积累经验，我们才能找到正确的方法制造出光刻机来。
曾经多国对我国的半导体行业发展进行嘲讽。
甚至还称，就算给我们十几年、二十年的时间，都不可能造出来。殊不知这样会更加地促进我国半导体行业发展。
因为你越是不让我们造出来，那么我们越是要让证明给你们看，我们中国能行！
然而事实证明，我国在半导体行业是有望突破，甚至还会在这个世界上站稳脚跟。
值得一提的是，我国的光刻机曾领先于世界过。
是的，你没有看错！
在那个时候荷兰的ASML都还不曾出现，1966年，通过我们不断的努力，研发出了65型接触式光刻机。
但好景不长，由于经费不够，经济比较落后，所以放弃了。
自此我国的芯片再也不用担心被西方国家“制裁”了，因为我们可以自己研制出芯片，不需要他们。
更不会让华为陷入“芯片危机”，会让他走得更远、更长久。
但现在说什么也都晚了，但不可否认在发展这条道路上永远不会晚。
