金融界2024年7月23日消息，天眼查知识产权信息显示，南通海星电子股份有限公司申请一项名为“一种高耐水合性复合箔制备方法“，公开号 CN202410554010.3 ，申请日期为 2024 年 5 月 。
专利摘要显示，本发明涉及电极箔制造技术领域，尤其是一种高耐水合性复合箔制备方法，包括制备钛前驱体溶液、制备腐蚀铝箔、前置预处理、多级化成处理以及后置处理阶段。因钛前驱体溶液独特特性，因 SBA15 的孔道中入侵有大量电常数物质 Ti，且相继合成一维纳米结构 Ti，利于后续更多的 Ti 附着在铝箔表面，且分布均匀性较好；再者，化成进程中的腐蚀箔更易于被化成液所侵润，利于提升氧化膜的生成均匀性以及生成速度。在后置处理进程中，同样利用 SBA15 比表面大，具有孔道直径分布，壁厚且水热稳定性较高等特性，纤维素得以均匀地包覆化成箔，且对其表面缺陷进行修复，从而为电极箔成品的耐水合性以及电学性能的提升作了良好的铺垫。
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