表征的样品没有显示出方铁矿的存在（冷却速率低），平面图研究也没有发现任何散裂或非常起伏的表面的迹象，尽管这可能很难观察到。
根据不同温度下的氧化物动力学，选择暴露时间以产生相同范围内的氧化皮厚度，但在不同的温度和暴露时间下形成，赤铁矿的表面形貌随预氧化温度的变化而变化。
在水蒸气存在下，预氧化500℃-12h的赤铁矿表面形成晶须，而在预氧化600℃-40min和700℃-7min的样品中，未观察到晶须。
在40%水蒸气存在下氧化纯铁时，在 400 和 500 °C 时，Fe3 的减弱赤铁矿表面的离子。
而表面下方的氧离子，是由于水蒸气的存在而引起的，水蒸气促进了表面铁离子的迁移并导致晶须的形成。
已发现水蒸气的影响在 500 和 600 °C 时对氧化铁的生长速率有影响，而在 400 °C 时没有观察到影响。
同样重要的是，要注意达到相似氧化皮厚度所需的不同时间，因为在晶须生长之前，可能需要一段培育时间。
在第二次曝光步骤的准备过程中，形态的差异，可能会影响 KCl 的分布，即使这在平面图图像中没有看到。
