证 zhèng：左右结构，左收右展。
左部“言”旁斜势抗肩，不要写宽。首笔竖点靠右，起笔稍重，向下稍左斜，勿长；长横起笔左探，大抗肩，略呈俯势，过竖点即收；中间两小横起笔渐左移，上短下长，抗肩与上横协调；下面“口”字整体斜势抗肩，注意与上面横画的位置关系。
右部“登” 字中宫收紧，不要写宽。横折撇注意起笔位置，横一带而过，接着顿笔写撇，角度稍立，注意长度；左点露锋起笔，渐重，勿长；右边两个小撇不可以离得太远，注意指向不同；捺笔实接起笔，行笔角度比撇笔略平，波脚稍长。下面“豆”字小横要上靠，虚接起笔，抗肩，勿长；中间 “口”上宽下窄，不要写大，整体抗肩；下面的点、撇注意起笔位置，不要写重；最后横画起笔左探，稍抗肩，略呈俯视，右边稍长，收笔稍下拉。
唐 · 颜真卿 · 多宝塔碑
柳公权
唐 · 褚遂良 · 伊阙佛龛碑
