真 zhēn：上下结构，上收下展。
上部“十”旁上展下收，斜势抗肩。首横斜切入笔，稍重，抗肩稍大，长短适宜；竖笔高起，稍抖入笔，稍重，竖身左斜，渐轻似撇，过横画后勿长。
下部“具”字上窄下宽，疏密得当。上面不可写宽，左竖斜切起笔，向下稍左斜，略弯，渐轻；横折半虚接起笔，横画勿重，扛肩，略呈俯势，到位后往上略提笔锋、稍重顿笔内擫写竖，稍重，略弯，稍长；中间三横虚接起笔，抗肩，勿重，等距；长横起笔左探，抗肩，略呈俯势，与两竖相接而过，收笔稍下拉。下面撇笔在左竖右侧实接起笔，注意走向，稍弯，勿重，勿长；最后右点要稍靠下，长而厚重，以稳住整字。
晋 · 王羲之 · 黄庭经
唐 · 颜真卿 · 多宝塔碑
唐 · 柳公权 · 玄秘塔碑
