讳 huì：左右结构，左收右展。
左部“言”旁不要写宽，斜势抗肩，诸横等距，位置靠上。首笔竖点靠右，用笔稍重，稍左斜；长横起笔左探，大抗肩，略呈俯视，过竖点即收；中间两小横稍偏左，上短下长，大抗肩；下面“口”不要写大，右斜抗肩， 位置相对上面两小横要稍偏左，以让右部。
右部“韦”字整体勿宽，上收下展。上面收敛抗肩：横折露锋起笔，注意与左部长横相对应，横画勿重，抗肩稍大，略呈仰势，到位后稍重顿笔，转锋写竖，左斜，稍重，勿长；竖笔高起，稍重，向下稍左斜，过底横后勿长；底横起笔左探，抗肩与上横协调，收笔托住右竖；中间“口”不要写大，上宽下窄，抗肩与上面协调。下面“㐄”要上收下展：横画离“口”稍近，抗肩，勿重；竖折起笔挡住横画，向下左斜带撇意，然后笔锋向左稍带，顿笔写横，横画略重，稍抗肩，略呈拱形，收笔稍下拉；最后竖笔实接起笔，位置稍偏右，竖身垂直有力，下面稍长，垂露收笔，勿重。
晋 · 王羲之 · 东方朔画像赞
唐 · 欧阳询 · 皇甫诞碑
唐 · 颜真卿 · 东方画赞碑
