光刻机的技术门槛是比较高,所涉及到的数学、现代学包括计算机学等方面,都是要求有着顶尖的技术要求,而我国在半导体设备制造上的发展,目前还有着很大的进步空间。
根据现在中芯国际在14nm生产线进一步推动之后,未来结合人工智能以及大数据等黑科技,或许将会能够更好地促进相关的企业,在芯片领域以及高端光刻机领域当中的发展。
不过,这一段时间之内要想更好地实现突破,还是离不开技术的积累,所以,对于科研人员来说,加快芯片自研自产的步伐,以及攻克高端光刻机的技术门槛,还需要有更多的时间。
光刻机的技术门槛是比较高,所涉及到的数学、现代学包括计算机学等方面,都是要求有着顶尖的技术要求,而我国在半导体设备制造上的发展,目前还有着很大的进步空间。
根据现在中芯国际在14nm生产线进一步推动之后,未来结合人工智能以及大数据等黑科技,或许将会能够更好地促进相关的企业,在芯片领域以及高端光刻机领域当中的发展。
不过,这一段时间之内要想更好地实现突破,还是离不开技术的积累,所以,对于科研人员来说,加快芯片自研自产的步伐,以及攻克高端光刻机的技术门槛,还需要有更多的时间。
Copyright © 2018 - 2021 www.yd166.com., All Rights Reserved.