华为海思半导体员工透露的消息
很多人会说20纳米芯片能干嘛，届时芯片制程都进化到3纳米了。其实这是外行话，别说20纳米芯片，就是28纳米芯片都足以支持华为通讯基站业务正常运行，而20纳米芯片则能够支持除手机SOC芯片、服务器芯片等少数芯片以外的绝大多数种类的芯片。
据了解，目前华为的芯片库存已经足以支撑华为通讯基站业务维持到2022年！届时只要能够自主生产20纳米芯片，华为除了手机业务、服务器芯片业务等少数领域之外，其他种类芯片都能够自主生产！只要华为能够自主生产20纳米，不仅活下来不成问题，而且还能活得非常好！
3、华为在自救的同时，国家也在全面加速芯片制造各个环节的国产化替代，DUV光刻机最早今年推出。
据了解，目前对于28纳米制程芯片生产线，国内的晶圆、光刻胶、蚀刻机、封装工艺等芯片制造产业链中绝大多数环节均已有国产材料或设备能够原位替代进口设备。其中最难的光刻机环节也有重大进展。2019年，江苏省开发区协会就曾发布了一篇透露DUV光刻机进展的新闻。文章称2020年28纳米国产光刻机将完成整机集成。
江苏省开发区协会官方网站发布的新闻
DUV光刻机也称为紫外线光刻机，也就是大家俗称的28纳米光刻机，单次曝光的线宽为28纳米，可用于制造7～28纳米制程的芯片。
至于更先进的EUV光刻机，关键技术也已经取得技术突破。2017年《中国科学报》发布了一篇名为《“极紫外光刻关键技术研究”通过验收》的消息。由此可见，国产EUV光刻机也即将问世。
当你以为我国一直处于追赶状态，那你就错了，实际上我国早已启动并行研发！DUVi、更先进的EUV以及下一代EUV光刻机均处于并行研发状态。2021年2月25日，光明日报发布了一篇名为《清华大学报告“稳态微聚束”首个原理验证实验》的报道。文中提到，清华大学和德国德国联邦物理技术研究院的团队成功验证了“稳态微聚束”（SSMB）原理。这是一种面向下一代EUV光刻机的先进EUV光源。只要持续投入，今后我国很有可能通过SSMB光源实现“光刻机领域”的弯道超车！
或许正是因为我国的国产DUVi光刻机即将量产，2020年底，世界唯一的一家高端光刻机生产厂商ASML竟然公开称DUVi光刻机出口无需美国批准。随后我国订购了一批DUVi光刻机，目前媒体报道称已经到货11台！
荷兰阿斯麦生产的高端光刻机正在组装调试
如此看来，我们根本就不用担心能不能造出先进光刻机，而更应该外国光刻机倾销影响国产光刻机生产商良性发展。毕竟，外国企业这招屡试不爽。
虽然我们很快就能造出光刻机，但是目前毕竟还没量产。那么华为自主芯片生产线的光刻机是怎么来的呢？
目前来看，有两种可能：1、从日、韩等国手中采购二手光刻机。2、从日本尼康进口DUV光刻机。前段时间就新闻报道称我国企业大量采购日、韩的二手光刻机，这说明，华为很可能是通过第一种方式获得光刻机。
虽然我国暂时造不出先进光刻机，但是做日常维修保养还是没问题的。因此，只要能够拿到光刻机，华为就能保证40纳米生产线所有关键设备和材料都无需找美国企业采购。
综上所述，在国家的支持下，华为很可能在未来几年内通过不断迭代升级，建立一条完全国产化的7纳米甚至5纳米芯片生产线！并有可能在10年后最终赶上世界最先进水平！
网友关于鸿蒙系统体验的反馈
在研发方面，我们完全不必担心华为的能力，它设计的芯片已经充分证明了它的研制能力完全不输给任何一家美国企业！最近华为设计的鸿蒙系统也已经开始内测，并且反馈非常好！
由此可见，只要有足够的资金支持，华为在芯片制造方面的技术进步一定会像其芯片设计、软件设计那样惊艳全世界！
最终，华为在补齐了芯片制造这块最后的短板以后，必将再次腾飞，成为任何国家都打不到的无敌金刚！让我们为华为和我国科研人员点赞！
