通过以上介绍,我们了解到所谓的3nm、1nm工艺节点并不代表实际的物理尺寸,而是反映了晶体管密度和性能的提升。同时,ASML的EUV光刻机是实现这些先进工艺节点的关键设备。当然,制造自己的EUV光刻机是中国半导体行业的目标。尽管这一过程可能需要较长时间,但随着技术的不断积累和突破,我们有理由相信,中国在未来将具备自主研发和生产EUV光刻机的能力。
通过以上介绍,我们了解到所谓的3nm、1nm工艺节点并不代表实际的物理尺寸,而是反映了晶体管密度和性能的提升。同时,ASML的EUV光刻机是实现这些先进工艺节点的关键设备。当然,制造自己的EUV光刻机是中国半导体行业的目标。尽管这一过程可能需要较长时间,但随着技术的不断积累和突破,我们有理由相信,中国在未来将具备自主研发和生产EUV光刻机的能力。
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