科技改变生活,随着科技的发展我们的生活发生了巨大变化,尤其是智能手机的出现。
智能手机打败了MP3、又PK掉了MP4、又干掉了电视机、游戏机、照相机。可以说当今社会,“一机在手,天下我有”!
手机如此的重要,那么手机性能无疑成了人们追求的目标,而手机性能又是由芯片、操作系统、屏幕等众多因素决定的,其中芯片可以说起着决定性因素,芯片性能强大,那么这款手机整体就是不错的。
高通、华为、苹果、三星等各大厂商在手机芯片领域角逐厮*,从14那么到7nm再到5nm,可以说*的天昏地暗、日月无光,最后美国政府都参与进来了。因为大家都知道在芯片领域落后就意味着失去整个市场,龙头吃肉,而其他公司别说喝汤了,恐怕生存都困难。
10nm、7nm、5nm工艺制程的芯片到底差距在哪里呢?听我慢慢道来!
众所周知芯片是由光刻设备在晶圆上刻蚀而来的,如果芯片是一座高楼大厦,那么晶圆就是砖瓦,是最基本的单元,在指甲盖大小的一片晶圆上,晶体管数量越多,说明芯片的集成度越高,那么性能也越高,能耗也就越低。
nm即纳米,长度单位,目前市场上的芯片都是纳米级的,最好的芯片是5nm工艺制程,也就是晶体管的宽度(也叫线宽)是5nm,那么5nm有多大呢?就是把一根头发剖成1万根,其中1根的直径就是5nm。
芯片分为设计、制作、封装测试,其中最难的就是制作,芯片光刻的难度好比是在一粒大米上雕刻清明上河图,而且还是在运动过程中雕刻。而且要使用先进的设备—光刻机。
10nm芯片普通光刻机即可制作,而7nm、5nm芯片就要使用AMSL公司的EUV光刻机,那么EUV光刻机制作难度有多大呢?