图为光刻机
现在各国之间的竞争不仅体现在经济，军事方面，随着时代的发展，各国也开始在科技方面进行比拼，说到这大家都会想到一些高科技产品，如手机，电脑等，这些产品都离不开芯片，但是要生产芯片，就会用到光刻机，近些年中国科技发展迅速，让美国感觉受到了威胁，难怪会在光刻机方面对中国极力封锁，这对其高科技产业产生了重大的影响，有人会问中国为什么不自己制造呢？当光刻机制造难度曝光后，老外纷纷感慨：简直比原子弹还难造。
图为光刻机
对很多人来说，光刻机是个生僻词，但是它和现代高科技的核心产品，即芯片，有着密切的关系，它是制造芯片的核心设备，芯片被设计出来后，需要晶圆代工厂利用光刻工艺来制造和封装，在这一步就需要用到光刻机，现代芯片都比较复杂，往往需要进行几十次光刻，光刻消耗的时间占据了芯片生产的二分之一，成本也达到了整体的三分之一，了解到这些，大家可能觉得这也没什么，那为什么说光刻机比原子弹还难造？
现代智能产品的芯片都非常复杂，高端手机芯片里的晶体管可能会达到上百亿个，这种高精度要求决定了光刻机是半导体生产中技术含量最高，最复杂的设备，涉及到了紫外光源，光学镜头，精密运动等多项世界高精尖技术，现在，全球最先进的光刻机是荷兰阿斯麦生产的EUV光刻机，阿斯麦也是世界唯一一个可以生产出EUV光刻机的公司，生产这种光刻机需要用到10万多个零件，这些零件几乎都是从全球采购的顶尖部件，可以说集全球顶尖技术于一体。
图为光刻机
除了这些，主要还是因为光刻机对精度要求极高，不能出现一丝错误，这对国家现有的工业和科技水平都提出了很高的要求，科学研究需要不断进行试验，积累数据，反复验证，并不断改进，而且因为光刻机比较特殊，对原料也有特殊要求，试验需要的部件也不是那么好找的，中国虽然资源丰富，但也不一定可以提供实验需要的所有东西。
另一方面，光刻机技术研发之所以如此难，是因为这项研究需要投入源源不断的资金和精力，不是可以一蹴而就的，阿斯麦的成功也是有迹可循的，二十世纪八十年代，阿斯麦早期发展时就把握住这个方向，进行深耕，专注于光刻技术的研发，同时注重寻求与外部的合作，与相关大学和专门的研究机构形成利益关联，共同研发，不断创新，除此之外，还得到了欧洲很多国家的支持，集中了很多科研院校的研究力量，共同研究EUV光刻技术，经过三十多年的积累和突破，才形成了这一技术垄断。
图为光刻机
总而言之，虽然中国在EUV光刻技术的研究方面任重道远，但经过不懈努力，上海光机所在这个研究领域取得了一项技术突破，即快速光学临近效应修正技术，这一技术将推动中国高端光刻机研究进一步发展，对于中国光刻机研究有着重要意义，这项研究再难，毕竟也有成功的先例，相信总有一天中国也会制造出属于本国的高端光刻机。
