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技术总结:
- 扩散是微观粒子(原子、分子等)运动的普遍的物理现象。扩散的动力是浓度的梯度,粒子从高浓度区向低浓度区进行热运动,使浓度分布趋于均匀。
- 扩散是半导体掺杂的重要方法之一, 扩散方法首先由Pfann在1952年提出来,广泛应用于集成电路中,形成晶体管的基极、发射极、集电极,电阻,MOS工艺中形成源极、漏极、互连引线等。
- 硅集成电路工艺中,采用SiO2作为掩膜,进行选择性扩散。
- 本报告从以下几个方面为您详解扩散工艺技术,值得收藏、转发学习:
- 杂质扩散机构
- 扩散系数与扩散方程
- 扩散杂质的分布
- 影响杂质分布的其他因素
- 扩散工艺
- 扩散工艺的发展
- 与扩散有关的测量