射线硬化伪影
BEAM-HARDENING ARTEFACT
常见于颅脑基底部及后颅窝
容积平均伪影
VOLUME-AVERAGING ARTIFACT
层厚较大时，可导致血液密度表现，在脑基底部较典型，易发生在眼眶上方额叶。
本例表现：四脑室囊性病变导致梗阻性脑积水。
三
颅脑断层常用基线
Reid基线（REL）：
- 为外耳道中点至眶下缘的连线。头部横断层标本的制作多以此线为准，冠状断层标本的制作基线与此线垂直。
眶耳线（OML）或眦耳线（CML）：
- 为外耳道中点与外眦的连线。颅脑轴位扫描（横断层扫描）多以此线为基线。
上眶耳线（SML）：
- 为外耳道中点与眶上缘中点的连线，经该线的平面约与颅底平面一致，有利于显示颅后窝结构及减少颅骨伪影。
