通过用乙酸-水-THF（13∶7∶3）（30℃，15h）处理，选择性除去1个TBDMS基团，以79％的收率得到单羟基化合物2。
1.3 t-Butyldiphenylsilyl ether (TBDPS-OR)
在酸性水解条件下TBDPS保护基比TBDMS更加稳定（约100倍），而TBDPS保护基对碱的稳定性比TBDMS要差。另外，由于该保护基的分子量较大，容易使底物固化而易于分离。TBDPS保护基对许多与TBDMS保护基不相容的试剂显出比TBDMS基团更好的稳定性。TBDMS基团在酸性条件下不易迁移。TBDPS醚对K2CO3 /CH3OH；对9M氨水、60℃、2h；对MeONa（cat.）/CH3OH、25℃、24h均稳定。该醚对80%乙酸稳定，后者可用于脱除醚中TBDMS，三苯甲基，四氢吡喃保护基，也对HBr /AcOH，12℃，2min；对25%~75%甲酸，25℃，2h~6h；以及50%三氟乙酸，25℃，15min稳定。
1.3.1 通过TBDPSCl进行羟基的叔丁基二甲基硅醚保护示例(J.Org. Chem, 1992, 57, 1722)
在22〜24℃下，N2保护，将化合物1（5g，55mmol）溶于DCM中，加入DIPEA（10mL），再滴加t-BDPSiCl（5mL，18mmol）。将该溶液在22-24℃下搅拌2小时，真空浓缩并进行色谱分离，用己烷/乙酸乙酯（10∶1）洗脱得到化合物2（无色油状液体，5.6g，95％）。
1.3.2 通过TBAF脱TBDPS示例 (Can. J. Chem. 1975, 53, 2975)
在22-24℃下，向化合物1（1.7g，3.3mmol）的THF（10mL）溶液中加入1M氟化四丁基铵的THF（5mL，5mmol）溶液。将溶液搅拌2小时，并用100mL（1：1）的Et2O / EtOAc溶液稀释。分离有机层，并用H2O（3100mL）洗涤。将水相用2：1 Et2O / EtOAc溶液（250 mL）洗涤，合并有机层，并用MgSO4干燥。真空蒸发溶剂，并将残余物在硅胶上使用（5∶1）己烷/乙酸乙酯溶液进行色谱分离，得到化合物2（0.75g，82％）。
1.4 三异丙基硅醚保护 (TIPS-OR)
酸性水解时，有较大体积的TIPS醚比叔丁基二甲基硅醚要更稳定些。但稳定性比叔丁基二苯基硅基差。TIPS基碱性水解时比TBDMS基或TBDPS基稳定。相对于仲羟基，TIPS基对伯羟基有更好的选择性。
1.4.1通过TIPSCl进行羟基的三异丙基硅醚保护示例(J. Org. Chem. 1995, 60, 7796)
将化合物1（1.5g）溶于DCM（53mL）中，冷却至0℃，搅拌溶液中依次加入2，6-二甲基吡啶（6.2mL，53.3mmol）和三氟甲磺酸三异丙基甲硅烷基酯（7.90mL，29.5mmol）。使混合物升温至室温（30分钟）。然后通过加甲醇（10mL）和饱和NH4Cl水溶液（60mL）消耗过量的三氟甲磺酸盐。分离有机相，并将水层用DCM（450 mL）萃取。合并有机相，用饱和NaHCO3（100mL）溶液，1M NaHSO4（350mL）和盐水（50mL）洗涤，经Na2SO4干燥，过滤并浓缩。通过硅胶色谱纯化（10％乙酸乙酯的己烷溶液），得到化合物2（6.90g，89％）。
未完，待续。
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