你们知道什么光刻机是用来做什么的吗？我国走在世界前列的电子研发品牌，还因为光刻机而被“卡过脖子”，为何明明研发水平已在全球名列前茅，却依然无法攻克这项技术？它真的有那么难吗？
光刻机是一种制造芯片所需的机器，它又叫做曝光机，也可以称之为曝光系统或者光刻系统，它是目前世界上已经制造出来的最为精密的仪器之一。
光刻机被发明出来，最主要的目的就是为了将半导体制成芯片。它可以通过精确的纳米技术，将结构极为复杂的芯片最终按照设计图纸制造出来。
光刻技术作为目前世界上最先进的科技之一，对于电子行业以及计算机等现代高科技产业的发展有着举足轻重的作用。
所以对于我国而言，尽快突破光刻技术，将这项技术牢牢地抓在自己的手中，也能够让我国的芯片生产安全得到保障，对于我国的国家科技安全有着重要的战略保障意义。
目前市面上所用来生产半导体集成电路的光刻机，都是一种掩模对准曝光机，它的机器内部拥有着一套精密的曝光系统，我们也可以称之为光刻系统。
目前芯片制造时所常用的光刻机，都是掩膜对准光刻，在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移到光刻胶上的过程，以及将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。
值得一提的是，芯片的原材料是硅，所以芯片也被称为硅片。
而目前半导体集成电路的初步加工，都是将沙子中的硅元素，加工成圆形状的硅晶片，而后再利用光刻技术，在硅晶片上进行光刻，制作成诸多集成电路，最终变成我们日常生活中所能看见的芯片集成电路。
虽然芯片从肉眼看上去并不难制造，但有些芯片体积也比较大。
但实际上一般的光刻工艺都要经历硅片表面的清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、硬烘等工序。在光刻成形后，还需要进行集成电路的组装拼接。
