文|理珂的观点
编辑|理珂的观点
三年前当荷兰光刻机巨头ASML的CEO彼特·温宁克宣布中国将在未来自产光刻机时，这不仅是对中国科技实力的一种信任，更是对全球光刻机市场未来走向的一种预见。
现在时针转动到了三年后的今天，这个预言的真实性和准确性如何？中国光刻机产业到底有了哪些突破和成就？我们不妨来一探究竟。
从全球角度看，光刻机市场几乎被ASML一家独大，这无疑给其他国家和企业的技术发展带来了巨大压力。
特别是对中国这样一个巨大的市场，自主研发光刻机的需求日益迫切。尽管中国起步较晚，但这几年的进步不容小觑。
在这三年的时间里，中国从28纳米技术的应用跃进到了7纳米技术的尝试，这一进展速度令业界瞩目。
例如华为的麒麟芯片已从28纳米发展到使用7纳米技术，这标志着中国在半导体制造领域的重要突破。
