光刻机之争加剧，中美科技战升级，产业链生变？
半导体芯片是现代科技产品的＂心脏＂，而光刻机则是芯片制造的关键设备。它能将芯片的微缩图形精准转移到硅片上，决定了芯片的制程工艺水平。尤其是极紫外光刻机（EUV，可实现7纳米及以下的超精细制程，成为制造高端芯片的必备利器。
近年来，中美两国在光刻机领域的较量日趋白热化。美国政府一直试图阻碍中国获取先进的EUV光刻机技术，将其视为遏制中国科技发展的重要一环。
具体而言，美国对荷兰光刻机制造商ASML公司实施严格的出口管制，禁止其向中国出售EUV光刻机及相关技术。ASML是全球唯一能生产EUV光刻机的企业，其产品对于制造7纳米及以下先进芯片至关重要。
美国之所以如此紧盯EUV光刻机，是因为这项技术被视为制造先进芯片的＂祖传秘方＂。一旦中国掌握了EUV光刻机，就能突破目前芯片制程的瓶颈，在人工智能、5G通信等前沿领域取得重大突破，从而对美国在这些领域的技术优势构成挑战。
除了对ASML实施管控，美国还将中国科技巨头华为等企业列入出口管制＂黑名单＂，切断它们获取EUV光刻机的渠道。这无疑是对中国芯片产业的严重打击。
美国对中国实施光刻机技术封锁，对全球科技产业链造成了巨大冲击。
苹果公司就是遭受重创的典型代表。苹果手机芯片一直由台积电代工生产，而台积电的7纳米及以下先进制程则严重依赖ASML的EUV光刻机。由于美国的限制，ASML无法向台积电出口最新的EUV光刻机，导致台积电的产能受限，进而影响到苹果芯片的供应。
去年，由于芯片短缺，苹果15系列手机在多个国家和地区出现了供不应求的状况。在印度、中国等地，苹果15的实际售价一度跌破官方指导价，跌幅高达20%以上。这对于一向对产品定价＂呲牙咧嘴＂的苹果来说，实属罕见。
除了苹果，包括高通、AMD、英伟达等美国芯片巨头也因EUV光刻机短缺而陷入困境。它们不得不将订单外包给台积电以外的代工厂，但后者的制程工艺往往落后一两代，性能自然无法与台积电的7纳米芯片相比。
