这种被动局面，令美国科技业界感到无奈和焦虑。芯片是现代科技产品的＂心脏＂，制程工艺的先进程度直接决定了终端产品的性能表现。一旦在芯片领域失去优势，美国的科技霸主地位将受到严峻挑战。
面对美国的技术封锁，中国正在加快自主研发EUV光刻机的步伐。目前，中国大陆已有多家企业在从事EUV光刻机的研发，其中上海微纳、中科曙光等公司的进展最为引人注目。
EUV光刻机是集光学、电子、机械、材料等诸多学科于一身的复杂精密设备，其研发难度之大可想而知。即便是ASML这样的行业老牌巨头，也用了30多年的时间才攻克了EUV光刻机的核心技术。
中国企业要在较短时间内实现EUV光刻机的自主可控，面临着重重挑战。除了技术本身的高难度，中国在光刻机关键零部件的国产化率也较低，存在着不少＂卡脖子＂的环节。
值得欣慰的是，近年来中国在EUV光刻机领域的投入在逐年加大，国家层面也给予了大力支持。2020年，国家集成电路产业投资基金就专门设立了一支100亿元的EUV光刻机专项基金。
中国企业还在积极探索EUV光刻机的替代路线，比如采用纳米3D打印等新兴技术，期望能够绕过EUV的技术壁垒，从而突破被动被迫的局面。
