15.造纸厂排放的废水中含有氢氧化钠,为测定废水中氢氧化钠的质量分数,某化学兴趣小组的同学取200g废水,向废水中滴加10%的硫酸溶液至恰好完全反应,反应后溶液的质量为298g.(假设废水中的其他成分不与硫酸反应)
请计算:
(1)10%的硫酸溶液的质量?
(2)废水中氢氧化钠的质量分数?
16.AgNO3可用于电影胶片制作。现取含有NaNO3的AgNO3样品100g,在一定条件下让样品充分反应,只有AgNO3发生反应,得到固体69g,该过程中发生反应的化学方程式为:2AgNO3
2Ag 2NO2↑ O2↑.试计算:
(1)AgNO3中N、O元素的质量比为 。
(2)分解产生的混合气体中O2的质量。
(3)另取100g样品和一定质量的NaCl固体全部溶解于142.5g水中,得到含一种溶质的溶液,该溶液溶质的质量分数是多少?
17.取一定量氯化镁溶液于烧杯中,将100g的氢氧化钠溶液平均分成五次加入烧杯中。在化学反应过程中对烧杯中的溶液和沉淀进行了多次过滤并称量。加入的氢氧化钠溶液和生成沉淀的质量关系记录如下表。
实验次数 | 第1次 | 第2次 | 第3次 | 第4次 | 第5次 |
加入的氢氧化钠溶液质量/g | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
沉淀总质量/g | 2.9 | 5.8 | 8.7 | 11.6 | 11.6 |
分析上表中的数据,完成下列问题:
(1)第 次加完氢氧化钠溶液时,氯化镁和氢氧化钠恰好完全反应,此时生成沉淀质量为 g。
(2)恰好完全反应时,称量所得氯化钠溶液质量为168.4g,求原氯化镁溶液中溶质的质量分数(请写出计算过程)。
18.某实验小组同学做中和反应实验时,向80g质量分数为10%的氢氧化钠溶液中逐滴加入稀硫酸,当恰好完全反应时,共用去稀硫酸62g。请你计算:
(1)氢氧化钠溶液中溶质的质量为 g。
(2)反应后所得溶液中溶质的质量分数?
19.现有一种稀盐酸和氯化铝的混合溶液,取100g该溶液于烧杯中,向其中逐滴加入氢氧化钾溶液,至氯化铝正好完全转化为沉淀,停止滴加氢氧化钾溶液,经测定,生成沉淀的质量为7.8g。请回答:
(1)据观察,产生沉淀前,消耗了一定量的氢氧化钾溶液,请写出该反应的化学方程式 。
(2)100g混合溶液中氯化铝的质量分数是多少?(写出计算过程,计算结果精确到小数点后两位。产生沉淀的化学方程式:AlCl3 3KOH=Al(OH)3↓ 3KCl)
20.向盛有Fe2O3粉末的烧杯中加入过量的稀H2SO4,充分搅拌,粉末完全溶解;再向所得溶液中逐滴加入NaOH溶液,生成沉淀与加入NaOH溶液之间的质量关系如图所示。请回答下列问题:
(1)写出AB段内反应的化学方程式: 。
(2)加入NaOH溶液40g时溶液中存在的溶质是 (写化学式)。
(3)计算氢氧化钠溶液中溶质的质量分数。(要求写出计算过程)
21.市售的某些银首饰是银、锌合金。小庆同学取该合金样品20g,加入100g稀硫酸恰好完全反应,产生气体质量与反应时间的关系如图所示,计算:
(1)该合金中锌的质量(精确到0.1g)。
(2)该稀硫酸中溶质的质量分数(精确到0.1%)。
22.某化学兴趣小组为研究酸的化学性质,他们将一定量稀硫酸加入到盛有少量CuO的试管中,观察到黑色粉末全部溶解,溶液呈 色,该反应的化学方程式为 。为进一步确定反应后所得溶液中的溶质成分,他们进行了以下实验探究。
【提出猜想】猜想一: ;猜想二:H2SO4和CuSO4
【资料查询】CuSO4溶液呈弱酸性,加入Zn粒时有极少量的气体产生。
【实验探究】为了验证猜想,该兴趣小组的同学设计了如下实验方案。
方案一:取所得溶液少许于试管中,滴入石蕊试液,振荡,若观察到溶液显红色,则猜想二正确。
方案二:取所得溶液少许于另一支试管中,加入足量Zn粒,若观察到产生大量气体、 等现象,则猜想二正确。
【讨论交流】A、经过讨论,大家一致认为方案一是错误的,其理由是 。
B、要使由H2SO4和CuSO4组成的混合溶液中的溶质只有CuSO4,可向其中加入过量的 (填序号)。
a、CuO b.Cu(OH)2 c、Cu d.Cu(NO3)2
【拓展探究】某混合溶液由硫酸和硫酸铜溶液组成。上述小组同学又进行了如下实验:取124.5g该混合溶液于烧杯中,然后将120gNaOH溶液分六次加入其中,每次充分反应后称量所得溶液的质量,所测数据如下表所示。
第1次 | 第2次 | 第3次 | 第4次 | 第5次 | 第6次 | |
加入NaOH溶液的质量/g | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 | 20 |
反应后溶液的质量/g | 144.5 | 164.5 | 179.6 | 189.8 | 200 | 220 |
每次产生沉淀的质量/g | 0 | 0 | m | n | 9.8 | 0 |
计算:
(1)上述表格中产生沉淀的质量:m= ,n= 。
(2)所加NaOH溶液中溶质的质量分数。
(3)第5次加入NaOH溶液充分反应后所得溶液中溶质的质量分数。
23.高纯硅可用于制备硅半导体材料.制备高纯硅的主要生产流程如图所示.
信息:石英砂的主要成分是SiO2,反应①化学方程式SiO2 2C